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產(chǎn)品詳細說明
美國ACM RESEARCH 單晶圓清洗設備
單晶圓清洗設備
• 沉積前清洗
• 蝕刻后清洗
• CMP后清洗
• RCA標準清洗
• W Loop后清洗
• Cu Loop后清洗
• 去除BEOL聚合物
• 深層Trench/Via清洗
• 薄膜去除
• TSV后清洗
• EPI前清洗
• ALD前清洗
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